Nach dem Entwurf der Topographie einer
vollständigen Halbleiterschaltung werden die Strukturen der benötigten
Einzelmasken (5 bis 7 Masken je Schaltung) in 100- bis 1000facher Vergrößerung von
einem Koordinatographen mit höchster Genauigkeit aus einer Doppelfolie geschnitten.
Der farbige Teil der Doppelfolie wird dann abgezogen, so daß Fenster und Leitbahnen
entstehen, die der zu erstellenden Fotomaske entsprechen.
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